电子束真空镀膜设备是根据电子束蒸发的物理气相堆积(PVD)技术，它在真空下使用电子束直接加热蒸发材料(通常是颗粒)，并将蒸发的材料输送到基板上构成一个薄膜。电子束蒸镀能够镀出高纯度、高精度的薄膜。

电子束蒸发镀膜机作为工艺实验仪器通常被用于材料科学领域，是一种普适镀膜机，用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器材、有机光电器材的金属电极，以及制备用于成长纳米材料的催化剂薄膜层。

电子束真空镀膜设备的使用范围

电子束蒸发镀膜机因其高堆积速率和高材料使用功率而被广泛使用于各种使用中。例如，高性能航空航天和汽车行业，对材料的耐高温和耐磨性有很高的要求;耐用的东西硬涂层;和化学屏障和涂层，以保护腐蚀环境中的外表。电子束蒸发也用于光学薄膜，包含激光光学、太阳能电池板、玻璃和建筑玻璃，以赋予它们所需的导电、反射和透射特性。

电子束真空镀膜设备的优点和缺点

电子束蒸技术发能够蒸发高熔点材料，比一般电阻加热蒸发技术功率更高。电子束蒸发镀膜机可广泛用于高纯薄膜和导电玻璃等光学镀膜。它还具有用于航空航天工业的耐磨和热障涂层、切削和东西工业的硬涂层的潜在工业使用。但是，电子束蒸发镀膜机不能用于涂覆杂乱几许形状的内外表。此外，电子枪中的灯丝退化或许导致蒸发速率不均匀。

电子束蒸发镀膜机的工作流程

电子束蒸发镀膜机是根据钨丝的蒸发。大约5到10 kV的电流经过钨丝(坐落堆积区域外以防止污染)并将其加热到产生电子热离子发射的点。使用永磁体或电磁体将电子聚焦并导向蒸发材料(放置在坩埚中)。在电子束碰击蒸发丸外表的进程中，其动能转化为热量，释放出高能量(每平方英寸数百万瓦以上)。因此，容纳蒸发材料的炉床有必要水冷以防止熔化。

电子束蒸发镀膜机和热蒸发镀膜机的区别

电子束蒸发镀膜机和热蒸发镀膜机的区别在于:电子束蒸发镀膜机是用一束电子炮击物体，产生高能量进行蒸发，热蒸发经过加热完结这一进程。与热蒸发镀膜机相比，电子束蒸发镀膜机提供了高能量;但将薄膜的厚度控制在5nm量级将是困难的。在这种情况下，带有厚度监控器的良好热蒸发器将更适宜。

与热蒸发镀膜机相比，电子束蒸发镀膜机的优点

电子束蒸发镀膜机能够将材料加热到比热蒸发镀膜机更高的温度。这允许高温材料和难熔金属(例如钨、钽或石墨)的十分高的堆积速率和蒸发。

电子束蒸发镀膜机能够堆积更薄、纯度更高的薄膜。坩埚的水冷将电子束加热严格约束在仅由源材料占有的区域，从而消除了相邻组件的任何不必要的污染。

电子束蒸发镀膜机的蒸发源有各种尺寸和配置，包括单腔或多腔。