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铝件如何抛光

发布日期:2021-04-24

可以考虑用等离子电解质抛光工艺来处理,效果不错 也很环保。具体如下;

 

    YB-66环保型铝和铝合金电解抛光添加剂

 

    YB-66环保型铝和铝合金电解抛光添加剂新工艺    

 

    一、特点

 

    1、抛光液不含铬酸,符合当今环保要求,节省环保设备投资及废水处理费用。

 

    2、抛光电流密度较传统工艺要小,因此不仅电耗低,抛光液使用寿命长,而且更适合大型铝和铝合金件的表面抛光。

 

    3、适用范围广,适用于纯铝及除硅含量大于2%的各种型号的铝合金。

 

    二、抛光液组成和操作条件

 

    浓磷酸(比重 1.74) 70%(重量)   

 

    YB-66添加剂 30%(重量 

 

    温度 55–65℃ 最佳60℃

 

    阳极电流密度,DA 2–8 A/dm2 (无搅拌)

 

  12–20 A/dm2 (搅拌)

 

    电压 10–15 伏

 

    抛光时间 3–5 分钟

 

    阴极材料  铅或不锈钢    

 

    阴极面积∶阳极面积 2–3∶1 

 

    三、开槽步骤 

 

    1、该抛光液在使用前的比重在1.50–1.52的范围内。根据所欲配制的抛光液容积、抛光液比重及抛光液中磷酸所占的重量比,计算出所要加入的磷酸量并加入之。

 

    2、同样计算出所需YB-66添加剂的重量并加入之。

 

    3、加热至操作温度。

 

    四、操作指导

 

    1、抛光时是否采用搅拌(阴极移动、空气搅拌)主要取决于抛光件的形状:若抛光件形状简单,横向宽度较窄,则不采用搅拌;反之,若抛光件形状不规则或横向宽度较大,尤其当抛光件某些部位阻碍气体逸出形成“气袋”而影响表面抛光的情况下则必须采用搅拌方式。在采用搅拌的状况下,必须相应提高阳极电流密度,否则抛光表面难以达到高光亮。

 

    2、抛光时大部分杂质沉积于阴极表面,但仍有部分因抛光生成的固体污泥留在抛光液内,因此需定期过滤抛光液把杂质除去。

 

    3、在抛光过程中,由于磷酸盐的产生,水的电解及挥发以及抛光液的夹带损失,故需不断补充磷酸和YB-66添加剂。

 

    4、磷酸与YB-66添加剂的添加比例一般仍按70%∶30%添加,但在每次添加后应测定抛光液比重,根据测定结果再予以适当调整。

 

    5、该抛光液在配制后未经使用前的原始比重在1.50–1.52的范围内,在抛光槽运转过程中,抛光液的比重应控制在1.50–1.65的范围内。抛光液比重过高说明抛光液含水量不足;反之,抛光液比重过低,表明抛光液水含量过高,磷酸含量偏低。经常用比重计测定抛光液比重是控制抛光液组分浓度及抛光质量的有效手段。

 

    6、在较高阳极电流密度下长时期抛光有可能造成抛光液中铝含量过高(抛光液顶部出现半融状物质就是铝含量过高的标志),此时必须用新抛光液部分更换之,以降低抛光液中的铝含量,

 

    五、镀前处理与镀后处理

 

    1、镀前处理

 

    铝或铝合金件在抛光前须先经除油处理。根据抛光件表面油泥沾污程度,一般可选择以下两种除油工艺中的一种进行处理。

 

    第一种工艺:铝件表面油泥沾污轻微且分布较均匀,通常采用弱浸蚀碱性除油液,其成分与操作条件如下:

 

    无水碳酸钠 25 g/L

 

    磷酸三钠 25 g/L

 

    温度 60–70℃

 

    浸渍时间 1–3 分钟   

 

    第二种工艺:铝件表面油泥沾污较重,常用无浸蚀碱性除油液,其成分与操作条件如下:

 

    无水碳酸钠 40–60 g/L

 

    磷酸三钠 40–60 g/L

 

    硅酸钠 20–30 g/L

 

    温度 50–70℃

 

   浸渍时间 15–30 分钟

 

    硅酸钠是缓蚀剂,它可抑制铝的浸蚀,但使用这种缓蚀剂时铝件表面会生成一层硅酸铝膜,因此,在除油及清洗后必须接着在含有氟离子的溶液内进行去污泥处理(常称出光)。铝及铝合金去污泥处理液的成分及操作条件如下:

 

    硝酸(含量65 %) 500–700 ml/L      

 

    氟化氢铵 50–120 g/L

 

   温度 20–25℃

 

   浸渍时间 30秒

 

    2、后处理

 

    多数铝及铝合金在电解抛光及清洗后即可施加各种镀涂层,如阳极氧化、电泳涂漆及各种金属镀层。但某些铝合金,如高铜含量的铝合金在电解抛光及清洗后尚需进行去污泥处理以提高其表面光亮性。

     昆山益固纳米科技有限公司隶属一家真空设备设计,制造,研发,销售于一体的真空设备制造厂商,本公司自主研发的表面处理设备如等离子电浆抛光,搭配涂层生产设备,来为涂层加工生产提供一体化服务,本公司致力于新技术的开发,长期与多家国内外院校进行技术开发,开发HIPIMS高功率镀膜,将此技术导入量产,应用于,3C电子,工模具,医疗器械,微钻微铣等行业,采用HIPIMS技术镀膜,有效改观现有普通装饰类工具涂层技术的瓶颈,所造设备销售国内外,受到客户一致好评。



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